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        精密模具鍍鉻 歡迎來電垂詢

        更新時間:2022-04-25   瀏覽數:185
        所屬行業:機床 特種/專用機床 表面處理
        發貨地址:廣東省東莞市長安鎮烏沙社區  
        產品規格:
        產品數量:9999.00個
        包裝說明:
        單 價:面議
        2)鍍后除氫
        由于鍍鉻的電流效率低,在陰極上大量析出氫氣,對于易析氫的鋼鐵部件,應在鍍后180~200℃的溫度,除氫3h,以避免發生氫脆。
        3)鍍液中雜質影響及去除鍍鉻電解液中常見的有害雜質主要是Fe3+、Cu2+、Zn2+、Pb2+、Ni2+等金屬離子和Cl-、NO3-。
        金屬離子主要來源于沒有被鉻層覆蓋部位金屬的溶解、落入鍍槽中的零件未及時打撈而溶解以及陽極浸蝕等。當金屬離子積累到一定含量時,將給鍍鉻工藝帶來很大的影響,如鍍層的光亮范圍縮小,電解液的分散能力降低,導電性變差等。鍍液對雜質的容忍量隨鉻酐濃度的增加而增加,所以低濃度鍍液對雜質極為敏感。當鍍液中Fe3+超過15~20g/L,Cu2+超過5g/L,Zn2+超過3g/L時,鍍液必須進行處理。采用低電流密度處理能收到一定的效果。
        精密模具鍍鉻
        這類鍍液具有電流效率高(270A),允許電流密度范圍大(高達80~100A/dm2),鍍液的分散能力和覆蓋能力好,沉積速度快等優點,故又稱“高速自動調節鍍鉻”。但鍍液的腐蝕性強。
        ④快速鍍鉻液在普通鍍鉻液基礎上,加入硼酸和氧化鎂,允許使用較高的電流密度,從而提高了沉積速度,所得鍍層的內應力小,與基體的結合力好。
        ⑤四鉻酸鹽鍍鉻液這類鍍液的鉻酐濃度較高,鍍液中除含有鉻酐和硫酸外,還含有氫氧化鈉和氟化鈉,以提高陰極極化作用。添加檸檬酸鈉以掩蔽鐵離子。這類鍍液的主要優點是電流效率高(35%以上),沉積速度快、
        鍍液的分散能力好,但鍍液只在室溫下穩定,操作溫度不宜超過24℃,采用高電流密度時需冷卻鍍液;鍍層的光亮性差,硬度較低,鍍后需經拋光才能滿足裝飾鉻的要求。
        ⑥常溫鍍鉻鍍液由鉻酐和氟化物(NH4F或NaF)組成,也可加入少量的硫酸。這種鍍液的工作溫度(15~25℃)和電流密度(8~12A/dm2)低,沉積速度慢,適用于薄層電鍍。其電流效率和分散能力較高,可用于掛鍍和滾鍍。
        ⑦低濃度鉻酸鍍鉻鍍液中鉻酐濃度較標準鍍鉻液低5倍,可大大降低對環境的污染。電流效率及鍍層的硬度介于標準鍍鉻液和復合鍍鉻液之間,其覆蓋能力和耐蝕性與高濃度鍍鉻相當。但鍍液的電阻大,槽電壓高,對整流設備要求嚴格,同時鍍液的覆蓋能力有待提高。
        ⑧三價鉻鍍鉻鍍液中以Cr3+化合物為主鹽,添加絡合劑、導電鹽及添加劑。該工藝消除或降低了環境污染,鍍液的分散能力和覆蓋能力較鉻酸鍍液高,陰極電流效率有所改善;可常溫施鍍;槽壓低;電鍍不受電流中斷的影響。但鍍液對雜質敏感,鍍層的光澤較暗,鍍層厚度為幾微米,并不能隨意增厚;鍍層的硬度低,鍍液成分復雜不利于維護。
        ⑨稀土鍍鉻液在傳統鍍鉻液的基礎上加入一定量的稀土元素及氟離子。采用稀土元素可降低鉻酐的濃度、拓寬施鍍溫度范圍(10~50℃)及陰極電流密度范圍(5~30A/dm2),降低槽壓,改善鍍層的光亮度及硬度。使鍍鉻生產實現低溫度、低能耗、低污染和高效率,即所謂的“三低一高”鍍鉻工藝。但對于鍍液的穩定性和可靠性,目前尚有不同的看法,尤其是對其機理的研究還有待深入。 [1]
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        4)鉻霧的抑制
        鍍鉻過程中,由于使用不溶性陽極,陰極電流效率又很低,致使大量氫氣和氧氣析出,當氣體逸出液面時,帶有大量的鉻酸,形成鉻霧造成嚴重的污染。目前抑制鉻霧的方法有兩種。
        ①浮體法將泡沫塑料碎塊或碎片放入鍍液的液面上,這些浮體可阻滯鉻霧的逸出,
        但零件出槽時,操作不方便。另外鉻酸氧化能力很強,對加入的碎塊有浸蝕作用,使分解產物在鍍液中積累,也會影響鍍層質量。
        ②加入泡沫抑制劑 泡沫抑制劑是一種表面活性劑,能降低鍍液的表面張力,產生穩定的泡沫層,覆蓋在鍍液表面。一般的表面活性劑在較高溫度和有強氧化劑存在下不穩定,但氟碳型表面活性劑在上述介質中能穩定存在。據報道,已用作鉻霧抑制劑的有多種,其中較好的是含有極性基團的脂肪長鏈有機化合物,如全氟辛烷基磺酸鈉鹽[CF3(CF2)6CF2SO3Na]是較典型的一種,每升鍍液中加入量為0.2~0.5g/L時,即可達到良好的效果。中國已試制出全氟烷基醚磺酸鉀,簡稱F-53鉻霧抑制劑,在鍍鉻液中的添加量為0.04~0.06g/L。使用時,先將F-53用水調成糊狀,加水稀釋,煮沸溶解靜止片刻,轉入加熱至50~60℃的鍍鉻槽中,不能把不溶的F-53直接倒入鍍槽。
        精密模具鍍鉻
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