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        鉸刀鍍鉻 點擊查看詳情

        更新時間:2022-04-25   瀏覽數:183
        所屬行業:機床 特種/專用機床 表面處理
        發貨地址:廣東省東莞市長安鎮烏沙社區  
        產品規格:
        產品數量:9999.00個
        包裝說明:
        單 價:面議
        1一般防護裝飾性鍍鉻
        一般防護裝飾性鍍鉻采用中、高濃度的普通鍍鉻液,適用于室內環境使用的產品。鋼鐵、鋅合金和鋁合金鍍鉻必須采用多層體系,主要工藝流程如下。
        ①鋼鐵基體銅/鎳/鉻體系工藝流程為:
        除油→水洗→浸蝕→水洗→閃鍍氰銅或閃鍍鎳→水洗→酸銅→水洗→亮鎳→水洗→鍍鉻→水洗干燥。
        多層鎳/鉻體系工藝流程為:
        除油→水洗→浸蝕→水洗→鍍半光亮鎳→水洗→光亮鎳→水洗→鍍鉻→水洗→干燥。
        ②鋅合金基體弱堿化學除油→水洗→浸稀氫氟酸→水洗→電解除油→水洗→閃鍍氰銅→水洗→光亮鍍銅→光亮鎳→水洗→鍍鉻→水洗→干燥。
        ③鋁及鋁合金基體 弱堿除油→水洗→電解除油→水洗→次浸鋅→溶解浸鋅層→水洗一二次浸鋅→水洗→閃鍍氰銅(或預鍍鎳) →水洗→光亮鍍銅→水洗→光亮鍍鎳→水洗→鍍鉻→水洗→干燥。
        鉸刀鍍鉻
        鍍鉻液中Cr6+離子在陰極還原產生Cr3+,與此同時在陽極上重新被氧化,三價鉻濃度很快達成平衡,平衡濃度取決于陰、陽極面積比。Cr3+離子是陰極形成膠體膜的主要成分,只有當鍍液中含有一定量的Cr3+時,鉻的沉積才能正常進行。因此,新配制的鍍液必須采取適當的措施保證含有一定量的Cr3+。
        ①采用大面積陰極進行電解處理。
        ②添加還原劑將Cr6+還原為Cr3+,可以用作還原劑的有酒精、草酸、冰糖等,其中較為常用的是酒精(98%),用量為0.5mL/L。在加入酒精時,由于反應放熱,應邊攪拌邊加入,否則會使鉻酸濺出。加入酒精后,稍作電解,便可投入使用。
        ③添加一些老槽液。
        普通鍍鉻液中Cr3+的含量大約在2~5g/L,也有資料報道是鉻酸含量的1%~2%,三價鉻的允許含量與鍍液的類型、工藝以及鍍液中雜質的含量有關。當Cr3+濃度偏低時,相當于硫酸根離子的含量偏高時出現的現象。陰極膜不連續,分散能力差,而且只有在較高的電流密度下才發生鉻的沉積;當Cr3+濃度偏高時,相當于硫酸根離子的含量不足,陰極膜增厚,不僅顯著降低鍍液的導電性,使槽電壓升高,而且會縮小取得光亮鍍鉻的電流密度范圍,嚴重時,只能產生粗糙、灰色的鍍層。當Cr3+的含量偏高時,也用小面積的陰極和大面積陽極,保持陽極電流密度為1~1.5A/dm2電解處理,處理時間視Cr3+的含量而定,從數小時到數晝夜。鍍液溫度為50~60℃時,效果較好。
        鉸刀鍍鉻
        由于鍍鉻層具有優良的性能,廣泛用作防護一裝飾性鍍層體系的外表層和功能鍍層,在電鍍工業中一直占重要的地位。隨著科學技術的發展和人們對環境保護的日趨重視,在傳統鍍鉻的基礎上相繼發展了微裂紋和微孔鉻、黑鉻、松孔鉻、低濃度鍍鉻、高效率鍍硬鉻、三價鉻鍍鉻、稀土鍍鉻等新工藝,使鍍鉻層的應用范圍進一步擴大。
        根據鍍鉻液的組成和性能不同,可將鍍鉻液分為如下幾類。
        ①普通鍍鉻液 以硫酸根作為催化劑的鍍鉻溶液。鍍液中僅含有鉻酐和硫酸,成分簡單,使用方便,是目前應用較為廣泛的鍍鉻液。鉻酐和硫酸的比例一般控制在100:1,鉻酐的濃度在150~450g/L之間變化。根據鉻酐濃度的不同,可分為高濃度(350~500g/L)、中濃度(150~250g/L)和低濃度(50~150g/L)鍍鉻液。低濃度的鍍鉻液電流效率高,鉻層的硬度也高,但覆蓋能力較差,主要用于功能性電鍍,如鍍硬鉻、耐磨鉻等;高濃度鍍液穩定,導電性好,電解時只需較低的電壓,覆蓋能力較稀溶液好,但電流效率較低,主要用于裝飾性鍍鉻及復雜件鍍鉻。
        ②復合鍍鉻液 以硫酸和氟硅酸作催化劑的鍍鉻液。氟硅酸的添加,使鍍液的電流效率、覆蓋能力和光亮范圍均比普通鍍鉻液有所改善,如陰極的電流效率可達到20%以上。然而,氟硅酸對陽極和陰極零件鍍不上鉻的部位及鍍槽的鉛襯均有較強的腐蝕作用,必須采取一定的防護措施,其襯里和陽極較好采用鉛一錫合金。此鍍液主要用于滾鍍鉻。
        ③自動調節鍍鉻液 以硫酸鍶和氟硅酸鉀為催化劑的鍍鉻液。在一定溫度及一定濃度的鉻酸溶液中,硫酸鍶和氟硅酸鉀各自存在著沉淀溶解平衡,并分別有一溶度積常數Ksp,即當溶液中[SO42-]或[SiF62-]濃度增大時,相應的離子濃度乘積將大于溶度積常數,過量的SO42-或SiF62-便生成SrSO4或K2SiF6沉淀而析出;相反,當溶液中[SO42-]或[ SiF62-]濃度不足時,槽內的SrSO4或K2SiF6沉淀溶解,直至相應的離子濃度乘積等于其溶度積時為止。所以,當鍍液的溫度和鉻酐的濃度一定時,鍍液中[SO42-]或[SiF62-]濃度可通過溶解沉淀平衡而自動的調節,并不隨電鍍過程的持續而變化。
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