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        常平鍍鉻 歡迎致電

        更新時間:2022-04-27   瀏覽數:177
        所屬行業:機床 特種/專用機床 表面處理
        發貨地址:廣東省東莞市長安鎮烏沙社區  
        產品規格:
        產品數量:9999.00個
        包裝說明:
        單 價:面議
        這類鍍液具有電流效率高(270A),允許電流密度范圍大(高達80~100A/dm2),鍍液的分散能力和覆蓋能力好,沉積速度快等優點,故又稱“高速自動調節鍍鉻”。但鍍液的腐蝕性強。
        ④快速鍍鉻液在普通鍍鉻液基礎上,加入硼酸和氧化鎂,允許使用較高的電流密度,從而提高了沉積速度,所得鍍層的內應力小,與基體的結合力好。
        ⑤四鉻酸鹽鍍鉻液這類鍍液的鉻酐濃度較高,鍍液中除含有鉻酐和硫酸外,還含有氫氧化鈉和氟化鈉,以提高陰極極化作用。添加檸檬酸鈉以掩蔽鐵離子。這類鍍液的主要優點是電流效率高(35%以上),沉積速度快、
        鍍液的分散能力好,但鍍液只在室溫下穩定,操作溫度不宜超過24℃,采用高電流密度時需冷卻鍍液;鍍層的光亮性差,硬度較低,鍍后需經拋光才能滿足裝飾鉻的要求。
        ⑥常溫鍍鉻鍍液由鉻酐和氟化物(NH4F或NaF)組成,也可加入少量的硫酸。這種鍍液的工作溫度(15~25℃)和電流密度(8~12A/dm2)低,沉積速度慢,適用于薄層電鍍。其電流效率和分散能力較高,可用于掛鍍和滾鍍。
        ⑦低濃度鉻酸鍍鉻鍍液中鉻酐濃度較標準鍍鉻液低5倍,可大大降低對環境的污染。電流效率及鍍層的硬度介于標準鍍鉻液和復合鍍鉻液之間,其覆蓋能力和耐蝕性與高濃度鍍鉻相當。但鍍液的電阻大,槽電壓高,對整流設備要求嚴格,同時鍍液的覆蓋能力有待提高。
        ⑧三價鉻鍍鉻鍍液中以Cr3+化合物為主鹽,添加絡合劑、導電鹽及添加劑。該工藝消除或降低了環境污染,鍍液的分散能力和覆蓋能力較鉻酸鍍液高,陰極電流效率有所改善;可常溫施鍍;槽壓低;電鍍不受電流中斷的影響。但鍍液對雜質敏感,鍍層的光澤較暗,鍍層厚度為幾微米,并不能隨意增厚;鍍層的硬度低,鍍液成分復雜不利于維護。
        ⑨稀土鍍鉻液在傳統鍍鉻液的基礎上加入一定量的稀土元素及氟離子。采用稀土元素可降低鉻酐的濃度、拓寬施鍍溫度范圍(10~50℃)及陰極電流密度范圍(5~30A/dm2),降低槽壓,改善鍍層的光亮度及硬度。使鍍鉻生產實現低溫度、低能耗、低污染和高效率,即所謂的“三低一高”鍍鉻工藝。但對于鍍液的穩定性和可靠性,目前尚有不同的看法,尤其是對其機理的研究還有待深入。 [1]
        常平鍍鉻
        1)提高鍍層結合力由于鍍鉻電解液的分散能力和深度能力較差,對某些形狀復雜的零件會出現漏鍍現象。
        在鍍硬鉻時,也常因結合力不好而產生鍍層起皮現象,在生產操作中,可采用以下幾種措施。
        ①沖擊電流對一些形狀復雜的零件,除了使用象形陽極、保護陰極和輔助陽極外,還可以在零件入槽時,以比正常電流密度高數倍的電流對零件進行短時間沖擊,使陰極極化增大,零件表面迅速沉積一層鉻,然后再恢復到正常電流密度施鍍。
        沖擊電流也可用于鑄鐵件鍍硬鉻,由于鑄鐵件中含有大量的碳,氫在碳上析出的過電位較低。另外鑄鐵件表面有很多氣孔,使得真實表面積比表觀面積大很多,若以正常電流密度施鍍,則因真實電流密度太小,沒有金屬鉻的沉積。所以在鑄鐵件鍍硬鉻時,必須采用沖擊電流,增大陰極極化。
        常平鍍鉻
        本詞條由“科普中國”科學百科詞條編寫與應用工作項目 審核 。
        鉻是一種微帶藍色的銀白色金屬,金屬鉻在空氣中極易鈍化,表面形成一層極薄的鈍化膜,從而顯示出貴金屬的性質。
        鍍鉻層具有很高的硬度,根據鍍液成分和工藝條件不同,其硬度可在很大范圍400~1200HV內變化。鍍鉻層有較好的耐熱性,在500℃以下加熱,其光澤性、硬度均無明顯變化,溫度大于500℃開始氧化變色,大于700℃硬度開始降低。鍍鉻層的摩擦系數小,特別是干摩擦系數,在所有的金屬中是較低的。所以鍍鉻層具有很好的耐磨性。
        鍍鉻層具有良好的化學穩定性,在堿、硫化物、硝酸和大多數有機酸中均不發生作用,但能溶于氫氯酸(如鹽酸)和熱的硫酸中。在可見光范圍內,鉻的反射能力約為65%,介于銀(88%)和鎳(55%)之間,且因鉻不變色,使用時能長久保持其反射能力而優于銀和鎳。
        常平鍍鉻
        2)鍍后除氫
        由于鍍鉻的電流效率低,在陰極上大量析出氫氣,對于易析氫的鋼鐵部件,應在鍍后180~200℃的溫度,除氫3h,以避免發生氫脆。
        3)鍍液中雜質影響及去除鍍鉻電解液中常見的有害雜質主要是Fe3+、Cu2+、Zn2+、Pb2+、Ni2+等金屬離子和Cl-、NO3-。
        金屬離子主要來源于沒有被鉻層覆蓋部位金屬的溶解、落入鍍槽中的零件未及時打撈而溶解以及陽極浸蝕等。當金屬離子積累到一定含量時,將給鍍鉻工藝帶來很大的影響,如鍍層的光亮范圍縮小,電解液的分散能力降低,導電性變差等。鍍液對雜質的容忍量隨鉻酐濃度的增加而增加,所以低濃度鍍液對雜質極為敏感。當鍍液中Fe3+超過15~20g/L,Cu2+超過5g/L,Zn2+超過3g/L時,鍍液必須進行處理。采用低電流密度處理能收到一定的效果。
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