PVD模具表面鍍鈦就是在模具表面上有層PVD鍍層，一般的材料為氮化鈦(TiN), 氮化鉻(CrN), ROSE, 氮鋁鈦(TiAlN), 高鋁鈦(AlTiN), DLC 涂層, 氮碳化鈦(TiCN), 氮碳化鉻(CrCN)等。該鍍層具有硬度高高硬度、低磨損率、低磨擦系數、強抗腐蝕性、抗黏著性等優越的使用性能廣泛應用于模具工業中。 PVD鍍鈦特點：增壽、增硬、增值,并以其硬高度、高耐磨、強抗腐蝕性、抗高溫、抗黏著性等優越的使用性能廣泛應用于模具工業中。

并且，薄膜外表開端變朦。多弧鍍另一個不足之處是，因為金屬是熔后蒸騰，因而堆積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差?？梢?，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優劣，為了盡可能地發揮它們各自的優越性，實現互補，將多弧技能與磁控技能合而為一的涂層機應運而生。刀具涂層廠家在工藝上呈現了多弧鍍打底，然后使用磁控濺射法增厚涂層，終究再使用多弧鍍到達終究安穩的外表涂層色彩的新辦法。

電即可作業，其引弧的進程也與電焊相似，具體地說，在必定工藝氣壓下，引弧針與蒸騰離子源時間短觸摸，斷開，使氣體放電。因為多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動的弧斑，在蒸騰源外表上接連構成熔池，使金屬蒸騰后，堆積在基體上而得到薄膜層的，與磁控濺射比較，它不光有靶材使用率高，更具有金屬離子離化率高，薄膜與基體之間結合力強的優點。

此外，多弧鍍涂層色彩較為安穩，尤其是在做 TiN 涂層時，每一批次均簡單得到相同安穩的金黃色，令磁控濺射法望塵莫及。多弧鍍的不足之處是，在用傳統的 DC 電源做低溫涂層條件下，當涂層厚度到達0.3μm 時，堆積率與反射率挨近，成膜變得十分困難。

http://www.6600psbsbc.com