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        浙江鍍鉻 歡迎在線咨詢

        更新時間:2022-04-27   瀏覽數:226
        所屬行業:機床 特種/專用機床 表面處理
        發貨地址:廣東省東莞市長安鎮烏沙社區  
        產品規格:
        產品數量:9999.00個
        包裝說明:
        單 價:面議
        4)鉻霧的抑制
        鍍鉻過程中,由于使用不溶性陽極,陰極電流效率又很低,致使大量氫氣和氧氣析出,當氣體逸出液面時,帶有大量的鉻酸,形成鉻霧造成嚴重的污染。目前抑制鉻霧的方法有兩種。
        ①浮體法將泡沫塑料碎塊或碎片放入鍍液的液面上,這些浮體可阻滯鉻霧的逸出,
        但零件出槽時,操作不方便。另外鉻酸氧化能力很強,對加入的碎塊有浸蝕作用,使分解產物在鍍液中積累,也會影響鍍層質量。
        ②加入泡沫抑制劑 泡沫抑制劑是一種表面活性劑,能降低鍍液的表面張力,產生穩定的泡沫層,覆蓋在鍍液表面。一般的表面活性劑在較高溫度和有強氧化劑存在下不穩定,但氟碳型表面活性劑在上述介質中能穩定存在。據報道,已用作鉻霧抑制劑的有多種,其中較好的是含有極性基團的脂肪長鏈有機化合物,如全氟辛烷基磺酸鈉鹽[CF3(CF2)6CF2SO3Na]是較典型的一種,每升鍍液中加入量為0.2~0.5g/L時,即可達到良好的效果。中國已試制出全氟烷基醚磺酸鉀,簡稱F-53鉻霧抑制劑,在鍍鉻液中的添加量為0.04~0.06g/L。使用時,先將F-53用水調成糊狀,加水稀釋,煮沸溶解靜止片刻,轉入加熱至50~60℃的鍍鉻槽中,不能把不溶的F-53直接倒入鍍槽。
        浙江鍍鉻
        鍍鉻液中Cr6+離子在陰極還原產生Cr3+,與此同時在陽極上重新被氧化,三價鉻濃度很快達成平衡,平衡濃度取決于陰、陽極面積比。Cr3+離子是陰極形成膠體膜的主要成分,只有當鍍液中含有一定量的Cr3+時,鉻的沉積才能正常進行。因此,新配制的鍍液必須采取適當的措施保證含有一定量的Cr3+。
        ①采用大面積陰極進行電解處理。
        ②添加還原劑將Cr6+還原為Cr3+,可以用作還原劑的有酒精、草酸、冰糖等,其中較為常用的是酒精(98%),用量為0.5mL/L。在加入酒精時,由于反應放熱,應邊攪拌邊加入,否則會使鉻酸濺出。加入酒精后,稍作電解,便可投入使用。
        ③添加一些老槽液。
        普通鍍鉻液中Cr3+的含量大約在2~5g/L,也有資料報道是鉻酸含量的1%~2%,三價鉻的允許含量與鍍液的類型、工藝以及鍍液中雜質的含量有關。當Cr3+濃度偏低時,相當于硫酸根離子的含量偏高時出現的現象。陰極膜不連續,分散能力差,而且只有在較高的電流密度下才發生鉻的沉積;當Cr3+濃度偏高時,相當于硫酸根離子的含量不足,陰極膜增厚,不僅顯著降低鍍液的導電性,使槽電壓升高,而且會縮小取得光亮鍍鉻的電流密度范圍,嚴重時,只能產生粗糙、灰色的鍍層。當Cr3+的含量偏高時,也用小面積的陰極和大面積陽極,保持陽極電流密度為1~1.5A/dm2電解處理,處理時間視Cr3+的含量而定,從數小時到數晝夜。鍍液溫度為50~60℃時,效果較好。
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        本詞條由“科普中國”科學百科詞條編寫與應用工作項目 審核 。
        鉻是一種微帶藍色的銀白色金屬,金屬鉻在空氣中極易鈍化,表面形成一層極薄的鈍化膜,從而顯示出貴金屬的性質。
        鍍鉻層具有很高的硬度,根據鍍液成分和工藝條件不同,其硬度可在很大范圍400~1200HV內變化。鍍鉻層有較好的耐熱性,在500℃以下加熱,其光澤性、硬度均無明顯變化,溫度大于500℃開始氧化變色,大于700℃硬度開始降低。鍍鉻層的摩擦系數小,特別是干摩擦系數,在所有的金屬中是較低的。所以鍍鉻層具有很好的耐磨性。
        鍍鉻層具有良好的化學穩定性,在堿、硫化物、硝酸和大多數有機酸中均不發生作用,但能溶于氫氯酸(如鹽酸)和熱的硫酸中。在可見光范圍內,鉻的反射能力約為65%,介于銀(88%)和鎳(55%)之間,且因鉻不變色,使用時能長久保持其反射能力而優于銀和鎳。
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        這類鍍液具有電流效率高(270A),允許電流密度范圍大(高達80~100A/dm2),鍍液的分散能力和覆蓋能力好,沉積速度快等優點,故又稱“高速自動調節鍍鉻”。但鍍液的腐蝕性強。
        ④快速鍍鉻液在普通鍍鉻液基礎上,加入硼酸和氧化鎂,允許使用較高的電流密度,從而提高了沉積速度,所得鍍層的內應力小,與基體的結合力好。
        ⑤四鉻酸鹽鍍鉻液這類鍍液的鉻酐濃度較高,鍍液中除含有鉻酐和硫酸外,還含有氫氧化鈉和氟化鈉,以提高陰極極化作用。添加檸檬酸鈉以掩蔽鐵離子。這類鍍液的主要優點是電流效率高(35%以上),沉積速度快、
        鍍液的分散能力好,但鍍液只在室溫下穩定,操作溫度不宜超過24℃,采用高電流密度時需冷卻鍍液;鍍層的光亮性差,硬度較低,鍍后需經拋光才能滿足裝飾鉻的要求。
        ⑥常溫鍍鉻鍍液由鉻酐和氟化物(NH4F或NaF)組成,也可加入少量的硫酸。這種鍍液的工作溫度(15~25℃)和電流密度(8~12A/dm2)低,沉積速度慢,適用于薄層電鍍。其電流效率和分散能力較高,可用于掛鍍和滾鍍。
        ⑦低濃度鉻酸鍍鉻鍍液中鉻酐濃度較標準鍍鉻液低5倍,可大大降低對環境的污染。電流效率及鍍層的硬度介于標準鍍鉻液和復合鍍鉻液之間,其覆蓋能力和耐蝕性與高濃度鍍鉻相當。但鍍液的電阻大,槽電壓高,對整流設備要求嚴格,同時鍍液的覆蓋能力有待提高。
        ⑧三價鉻鍍鉻鍍液中以Cr3+化合物為主鹽,添加絡合劑、導電鹽及添加劑。該工藝消除或降低了環境污染,鍍液的分散能力和覆蓋能力較鉻酸鍍液高,陰極電流效率有所改善;可常溫施鍍;槽壓低;電鍍不受電流中斷的影響。但鍍液對雜質敏感,鍍層的光澤較暗,鍍層厚度為幾微米,并不能隨意增厚;鍍層的硬度低,鍍液成分復雜不利于維護。
        ⑨稀土鍍鉻液在傳統鍍鉻液的基礎上加入一定量的稀土元素及氟離子。采用稀土元素可降低鉻酐的濃度、拓寬施鍍溫度范圍(10~50℃)及陰極電流密度范圍(5~30A/dm2),降低槽壓,改善鍍層的光亮度及硬度。使鍍鉻生產實現低溫度、低能耗、低污染和高效率,即所謂的“三低一高”鍍鉻工藝。但對于鍍液的穩定性和可靠性,目前尚有不同的看法,尤其是對其機理的研究還有待深入。 [1]
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